О методологии оценки конформности атомно-слоевого осаждения тонких пленок в высокоаспектных наноструктурах
11.07.2019

В журнале "Наноиндустрия" (2019, №3-4) опубликована статья Васильева В.Ю."О методологии оценки конформности атомно-слоевого осаждения тонких пленок в высокоаспектных наноструктурах"/Наноиндустрия, 2019, №3-4,C.194 - 204.

Рассмотрены проблемы и способы количественной характеризации конформности тонкопленочных покрытий на поверхностях высокоаспектных наноструктур при атомнослоевом осаждении (АСО). Автор развивает ранее предложенную методологию анализа конформности тонкопленочных покрытий методами химического и плазменного осаждения из газовой фазы, и АСО. Предложенная автором методология позволяет проводить адекватную оценку и количественное сравнение результатов для структур различной сложности при использовании различных методов и режимов получения тонких пленок методом АСО.


The problems and methods for the quantitative characterization of the conformality of thin films on the surfaces of high-aspect ratio nanostructures during atomic layer deposition (ALD) are considered. The author develops the previously proposed methodology for analyzing the conformity of thin films by chemical vapor deposition (CVD) and plasma-enhanced deposition (PECVD), and ALD. The methodology proposed by the author allows to perform an adequate assessment and quantitative comparison of the results for the device structures of varying complexity using different kinds and conditions of ALD method.

DOI: 10.22184/1993-8578.2019.12.3-4.194.204

Скачать PDF